12月份工作总结

月度工作总结。

高科磁业****技术研发中心徐治伟。

尊敬的领导：

我叫徐治伟，是高科磁业****技术研发中心的员工。我于2012年10月份进入公司上班，目前在pvd（真空镀膜）岗位实习，主要工作是参与真空镀膜相关工艺的制定、pvd镀膜车间人员的管理、真空镀膜设备的操作与维护等工作。现将12月份的工作做一小结，敬请查阅！

我们公司拥有一台复合式卧式真空镀膜设备，可以做真空蒸发镀膜、磁控溅射镀膜与离子镀膜，并配置有离子源、偏压电源、加热装置等，可以对真空镀膜室和基片进行离子轰击清洗、加热，从而可以提高基片与膜层的附着力，改变薄膜的结晶度、薄膜晶体的择优取向、薄膜的内应力等。

钕铁硼具有优异的磁性能和高的性价比，在电子工业、汽车制造、冶金工业、仪器仪表以及微电机等方面获得越来越广泛的应用。由于钕铁硼的耐蚀性差，必须对其表面进行防护处理，特别是内部磁体常在冷热交变、高腐蚀等工作环境下长期工作，对钕铁硼的表面防护提出了更高的要求。

工业生产上，通常采用水电镀、热喷涂、电泳等表面处理方法，来提高钕铁硼的防护性能、装饰性能、力学性能。这些防护处理方法存在着膜层与基材结合力较差，产生废水、废气、废渣等，还需要消耗大量的水资源以及铜、镍、锌等较为贵重的金属，工艺较为复杂、劳动条件差、治理污染难、环保压力大，成本居高不下。pvd防护处理具有优异的特点，如消耗资源少、不产生废液没有污染、膜层与基体结合力好、膜层纯度更高、膜层致密、防护性能更好，是以后钕铁硼表面防护处理发展的一个重要方向。

目前我们主要在钕铁硼永磁体元件表面真空镀制一层铝膜层，以提高它的耐腐蚀性能和高温防护性能。铝是一种银白色金属，具有很高的反射率，铝膜与基材结合力较强，尤其是在真空镀膜后，表面会生成一种透明的al2o3薄膜，所以铝膜的机械强度和化学稳定性都比较好，真空镀铝膜具有广泛的应用。真空镀制铝膜的方法有真空蒸发、磁控溅射、离子镀膜，常见的镀制铝膜的工艺有以下几种：

（1）铝合金/镁合金制品真空镀铝工艺：基材前处理（包括打磨、脱脂、除锈、磷化）→粉末涂料喷涂及热固化→底涂料喷涂及热固化→装炉及抽真空→真空镀铝膜→面涂料及热固化→检验→包装入库。

（2）abs塑料制品：基材前处理（包括除应力、除油、除尘、脱脂）→uv底涂料或红外底涂料及固化→装炉及抽真空→离子轰击→真空镀铝膜→uv面涂料或红外面涂料及固化→检验→包装入库。

（3）abs塑料制品或abs改性的pc塑料制品：基材→前处理（包括除应力、除油、除尘、脱脂）→uv底涂料→装炉及抽真空→真空镀铝膜→真空镀sio2/tio2→检验→包装入库。本人曾经在abs塑料制品上真空镀铝后，再镀制一层tio2，用无机涂层取代有机涂层，样品的耐腐蚀性能有所提高，盐雾试验可达96h左右。

我们公司目前真空镀铝的工艺过程为：钕铁硼基材→表面处理（包括打磨、脱脂、除油、除锈）→装炉抽真空→加热至120℃→离子轰击→真空镀膜（包括离子轰击、偏压、加热、离子镀铝膜、磁控溅射镀铝膜、蒸发镀铝膜→冷却→后处理（包括喷砂、钝化）→检验包装。我们公司镀铝膜工艺存在的主要问题有：

（1）工艺复杂，生产效率低，周期长。不算扩散泵加热时间，完成一炉产品的镀膜工艺需要6h左右。

（2）膜层防护性能较差，盐雾试验时间较短，最高不超过48h，甚至不超过16h。

引起这两个方面问题的主要原因有：

1）基片的前处理：包括基片的打磨、脱脂、除油、除锈、除灰尘、除水汽，以及操作人员是否规范操作。我们目前缺乏相关产品，试验基材都是退镀的样品反复使用，表面难免被污染、锈蚀，钕铁硼材料极容易锈蚀、腐蚀，从而影响膜层与基材的结合力，进而影响铝膜层的防护性能。

（2）膜层厚度太薄。溅射镀膜时，溅射电流不超过30安培，溅射电压只有400多伏特，所以溅射功率比较小，虽然溅**2～３小时，但是我们镀制的铝膜层厚度只有1个微米左右，很容易被腐蚀掉。

（3）后处理，我们部分样品镀膜工艺完成后，还进行了喷砂工艺，由于真空涂层厚度比较薄，喷砂后使其厚度更加薄，从而降低了它的防护性能，盐雾试验时间较短不达标。

（4）从铝的物理化学性质可以知道，铝膜层本身比较活泼，容易和酸、碱反应，也很容易氧化，从而被腐蚀掉，盐雾试验时间较短。

综上所述，我们要想提高镀铝膜层的防护性能，除了加厚镀铝膜层的厚度、做好基材表面的前处理工作、加强操作人员规范化操作外，最好在镀铝膜层表面涂镀一层有机涂层或无机涂层。或者用其它防护性能更好的真空镀膜涂层来取代铝镀膜涂层，如用真空镀铬、钛、锆或者它们的氧化物、碳化物、碳化物来取代真空镀铝涂层，也可以获得较好的装饰性能、防护性能以及力学性能。

高科磁业****技术研发中心：徐治伟。

12月份工作总结

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